超声波去蜡清洗技术研究

本文作者：赵金辉；成功正常投稿发表论文到《天津科技》2014年11期,引用请注明来源400期刊网！

【摘要】：超声波清洗技术是半导体材料制备的主要清洗方法,极大地提高了半导体材料制备的工作效率和清洗效果。阐述了超声波清洗作用原理。通过调节超声机功率密度、频率,进行晶片去蜡清洗实验,验证、分析了超声清洗过程中超声机功率密度、频率对晶片去蜡清洗的影响。
【论文正文预览】：0引言超声波清洗速度快、质量好,并能大大降低环境污染,因此被广泛应用于工业领域。电子行业是超声波清洗应用最早、最为普及的行业。电子零件和电子元器件的基体清洗都需要采用超声波清洗。同时,该项技术还被晶片去蜡工艺采用,并发展成为主流去蜡工艺,极大的提高了晶片去蜡工
【文章分类号】：TN304.05
【稿件关键词】：超声波去蜡功率密度频率
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【稿件标题】：超声波去蜡清洗技术研究
【作者单位】：中国电子科技集团公司第四十六研究所;
【发表期刊期数】：《天津科技》2014年11期
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